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微弧氧化的步骤
一、阳极氧化阶段
将样品置于一定的电解液中,通电后,样品外表和阴极外表呈现---细小的平均的白色气泡,而且随电压升高,气泡逐步变大变密,生成速率也不时加快。在到达击穿电压之前,这种现象不断存在,微弧氧化技术,这一阶段就是阳极氧化阶段。
二、火花放电阶段
当施加到样品的电压到达击穿电压时,样品外表开端呈现---细小、亮度较低的火花点。这些火花点密度不高,无爆鸣声。在该阶段,手机壳微弧氧化技术,样品外表开端构成陶瓷层,但陶瓷层的生长速率很小,镁合金微弧氧化技术,硬度和致密度较低,所以应尽量减少这一阶段的时间。






zl205a微弧氧化膜层耐蚀性能研究
利用硅酸盐复合电解液体系,在zl205a上采用微弧氧化法制备膜层。
所用的工艺参数为:恒流控制,电流密度3 a/dm^2,频率500 hz,终止电压450 v。利用扫描电镜对该膜层的形貌及结构进行分析;对膜层的化学成分进行分析;采用极化曲线评价膜层的耐蚀性。
结果表明:所制备的微弧氧化膜层能提高zl205a的耐蚀性。

负占空比对钛合金微弧氧化膜层的影响
恒压模式下,利用自制的多功能微弧氧化设备在na2sio3—na3po4—naoh电解液体系中制备了钛合金陶瓷膜,采用扫描电镜、x射线衍射仪等考察了负占空比(dc)对钛合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相组成及耐蚀性的影响。结果表明:随着dc的增加,微弧氧化技术厂家,膜层厚度减小;膜层表面呈典型的多孔陶瓷结构,随dc的增大,膜层表面微孔数量减少,孔径增大且有裂纹产生;膜层相组成主要为ti、金红石及锐钛矿tio2,在dc=45%时基体衍射峰消失。相对基体而言,膜层的硬度及耐蚀性都具有较大的提高;随dc增加,膜层硬度增强,耐蚀性有一定程度的减弱。
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